設備特點：
1、設備采用真空磁控濺射技術，孿生陰極，中頻濺射技術，并配以先進的控制系統．
2、生產過程全部自動，連續進行。被鍍工件加熱溫度最高可達350℃，溫度分區控制可調，
3． 真空室體材料采用SUS304，真空室內壁進行拋光處理，外壁采用拋光后 噴珠處理。
4、真空室之間采用獨立門閥隔開，我們設計的是插板閥，可以有效隔斷，穩定工藝氣體。目前國內只有我 們公司具有這項技術設計生產插板閥，它比目前國內通用的翻板閥密封效果更好，更耐用．
5、傳動采用磁導向，保障傳動的穩定性。整條生產線的各段速度采用變頻調速電機驅動，運行速度可調節
6、電氣控制系統：觸膜屏與P L C自動控制，人機對話方式來實現系統的數據顯示、操作與控制
7、主要技術參數：
8、極限真空壓力：7×10-4Pa
9、平均生產周期：8 0秒／架
10、基片架尺寸：8 5 0×1 5 0 0(mm)(可以根據要求定做)
11、膜層均勻性：±2％
12、膜層穩定性：達到國際標準