英特爾將碳納米管技術用于未來芯片設計

芯片廠商英特爾正指望用碳納米管取代半導體芯片內部的銅連線。這種轉變總有一天會消除芯片廠商面臨的一些大問題。
英特爾已經在努力研制一種連線的原型產品，也就是芯片內部連接晶體管的微型金屬線，以檢驗這種連線的性能。實際上，這個試驗是檢驗有關碳納米管屬性的理論是否準確的一個方法。
英特爾在俄勒岡州的實驗室的組件研究經理Mike Mayberry將在下個星期在舊金山舉行的國際研討會上討論這個問題。英特爾與加州理工大學、哥倫比亞大學、伊利諾大學香檳分校和波特蘭州立大學等大學一起研究這個項目。
芯片連線已經成為半導體廠商面臨的一個頭疼的問題。根據摩爾定律，芯片廠商每兩年就要縮小一次半導體芯片內部的元件。然而，縮小連線會增加電阻，降低芯片的性能。芯片廠商在90年代從把連線從鋁線轉變為銅線從而繞過了這個問題。遺憾的是，隨著芯片尺寸的縮小，這個電阻問題將成為英特爾等芯片廠商遇到的大問題。碳納米管導電性比金屬要好，有可能成為替代金屬連線的解決方案。
無論碳納米管能否應用到芯片中，半導體芯片內部的結構和材料在今后20年里都將發生重大的變化。大約在2010年或者2012年，研究人員將確定做出什么改變，然后，把硅元素與其它新的納米元素結合在一起的芯片將在2015年左右出現。到2020年，這種芯片縮小的能力將結束，那時芯片將采用不同的材料。

[此信息未經證實 僅供參考]