產品頻道

      德國HOLOEYE PLUTO-2.1-NIR-149波長1000nm空間光調制器

      產品型號:PLUTO-2.1-NIR-149

      廠商性質:供應商

      公司名稱:友定貿易(上海)有限公司

      地  址:上海市嘉定區澄瀏公路52號39幢2樓

      聯 系 人:陳結川

      聯系電話:17721247470

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      友定貿易(上海)有限公司

      公司類型:供應商

      主營產品: 風向標 、柱塞泵 、光源板 、分配器 、電阻器 、控制箱 、溫度計 計量泵 、計量閥 、單向閥 、減速機 、齒輪箱 、指示器 、電磁閥

      所在地區:上海市 上海市

      注冊時間:2024-08-12

      產品介紹

      產品介紹
      PLUTO-2.1-NIR-149 是一款基于反射式 LCOS(液晶硅)技術的相位型空間光調制器,屬于 PLUTO-2.1 系列的高反射率版本。其核心功能是對 1000-1100nm 波長范圍的近紅外光進行相位調制,通過液晶材料的物理特性改變入射光的相位分布,從而實現對光束的精確控制。
      該型號配備 dielectric mirror 涂層,以提升反射率,減少光吸收,使其可適用于較高功率的激光場景。作為 PLUTO-2.1 系列的一員,它兼容系列通用的驅動單元,無需額外購置驅動即可運行,支持根據應用需求靈活升級或適配同系列其他版本。設備采用 HDMI 接口接收信號,配合 USB 接口進行校準與配置,操作方式符合行業常規標準。
      功能特點
      PLUTO-2.1-NIR-149 的核心特點在于高反射率設計,其平均反射率可達 93%@1064nm,這一特性降低了光在調制過程中的能量損耗,減少了因吸收導致的設備發熱,使其適用于較高功率的激光應用。作為相位型調制器,它能實現 2.9π@1064nm 的最大相位延遲,滿足 1000nm 左右波長范圍相位調制的需求。
      設備支持 8 位尋址位深,可實現精細的相位控制,輸入幀率為 60Hz,實際響應時間取決于具體配置。其驅動單元集成雙核心 ARM® Cortex™-A9 處理器,運行嵌入式 Linux 系統,支持通過 USB 接口調整電壓與灰度分布(gamma 控制),便于針對 1000nm 等特定波長進行校準。此外,驅動單元配備觸發同步輸出,可與外部設備實現同步操作,提升系統集成的協調性。
      選型指南
      選型時需首先確認應用的波長范圍,PLUTO-2.1-NIR-149 僅適用于 1000-1100nm 的近紅外波段,若需求波長在該范圍外,需選擇系列內其他版本(如 UV-099 適用于 350-500nm,VIS-130 適用于 500-660nm 等)。
      其次,需考慮激光功率需求。由于該型號采用高反射率涂層,適合較高功率場景,若應用中激光功率較低,可選擇系列內標準反射率版本以降低成本;若功率較高,此型號為更合適的選擇。
      此外,需確認與驅動單元的兼容性。PLUTO-2.1 系列所有型號均兼容同系列驅動單元,若已有該系列驅動,可直接適配,無需額外采購。最后,需根據相位控制精度需求確認位深是否滿足,該型號為 8 位尋址,可滿足多數 1000nm 波長附近調制場景的需求。
      技術參數
      顯示類型:反射式 LCOS;
      分辨率:1920 x 1080 像素;
      像素間距:8.0μm;
      有效面積:15.36 x 8.64 mm(對角線 0.7 英寸);
      填充因子:93%;
      尋址位深:8 Bit;
      輸入幀率:60 Hz(實際響應時間取決于版本與配置);
      信號格式:HDMI - HDTV 分辨率;
      波長范圍:1000-1100 nm;
      最大相位:2.9π@1064nm;
      平均反射率:93%;
      驅動接口:HDMI(信號輸入)、USB(配置與校準)。
      產品尺寸
      該設備的核心顯示部分有效面積為 15.36 x 8.64 mm,對角線長度 0.7 英寸。
      應用領域

      PLUTO-2.1-NIR-149 主要應用于 1000-1100nm 近紅外波段的相位調制場景,尤其適合較高功率激光的應用。具體領域包括:激光加工中的光束整形,通過相位調制控制激光能量分布,提升加工精度;近紅外光譜分析中,用于光束相位校準與信號增強;光通信領域,可對 1000nm 左右的信號光進行調制,實現信號的編碼與傳輸;此外,在全息成像、激光雷達等需要精確相位控制的場景中也有應用潛力。其高反射率特性使其在高功率環境下能保持穩定性能,減少因吸收導致的設備損耗與精度偏差。

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